목록2015/01/07 (10)
여기에 기계
제품코드G050025판매 회사명디엠에스연락처010-7931-2003홈페이지-제품홍보관http://blog.yeogie.com/dms21 건식 식각 장비는 반도체 웨이퍼 위에 있는 미세 회로(패턴) 가운데 불필요한 절연막 부분을 플라즈마를 이용해 제거하는 장비입니다.Etch Rate Non-Uniformity : Minimum 1% : 99% 이상의 식각 균일도를 유지합니다.Excellent CD Control : Under 2nm타사 장비 대비 운영비용 절감Fastest Recovery Time ※ 출처 : 여기에 기계플라자 - [G050025] 반도체장비
제품코드G050024판매 회사명디엠에스연락처010-7931-2003홈페이지-제품홍보관http://blog.yeogie.com/dms21 광전효율을 높이기 위해 solar glass상의 TCO 박막에 texturing을 하는 장비로써, 대면적 a-Si solar cell의 광전효율을 높이는 핵심 장비입니다.온도 Control : 28 ~ 45℃ ± 1℃ (초기 45℃ 도달 시간은 1hr)농도 Control : 1%~10% ± 0.1% (HCl 혹은 비슷한 물성의 약액) Throughput : 30, 50, 75, 90 매수/시간 (sph) ※ 출처 : 여기에 기계플라자 - [G050024] 솔라셀장비
제품코드G050023판매 회사명디엠에스연락처010-7931-2003홈페이지-제품홍보관http://blog.yeogie.com/dms21 유리기판 위에 증착된 금속막의 특정 부위를 녹여내, 원하는 패턴만 남게 하여 그 패턴들이 전기회로의 역할을 할 수 있게 하는 장비입니다.Integrated tank & bath : Tank와 Bath가 일체 되어 공간활용도가 높습니다.Enhanced etching uniformity : 균일한 식각이 가능합니다 ※ 출처 : 여기에 기계플라자 - [G050023] LCD 장비
제품코드G050022판매 회사명디엠에스연락처010-7931-2003홈페이지-제품홍보관http://blog.yeogie.com/dms21 현상장비는 TFT-LCD 제조 공정 중 Photolithography Process에 있어서 감광액(Photo resist)을 현상(Develop)하는 장비입니다.Simple Pipe Connection : 간단한 구조로 설계되어 장비 크기가 작아지고, 구동 시간이 단축됩니다.Develop Zone Roller : 원통 Roller를 부착, 유리기판이 평탄하게 이동될 수 있도록 하여 수율 향상에 효과적입니다.Bubble Discharge Function : Tank 하부에 Chemical이 통과할 수 있는 격벽을 설치하여 불필요한 bubble을 효과적으로 제거합니다. ※..
제품코드G050021판매 회사명디엠에스연락처010-7931-2003홈페이지-제품홍보관http://blog.yeogie.com/dms21 HDC는 TFT-LCD 주요 공정에서 유리기판을 세정하는 공정장비로서, 제품 수율 향상에 효과가 매우 큽니다. Compact size & Simple design : 작고 단순한 구조로 공간활용도가 높습니다.No detergent : 세정제를 사용하지 않아 친환경적입니다.Enhanced cleaning system : 우수한 세정력으로 수율 향상에 기여합니다. ※ 출처 : 여기에 기계플라자 - [G050021] LCD 장비
제품코드G050020판매 회사명빅아이즈정보시스템연락처02-2207-9702홈페이지-제품홍보관- ※ 출처 : 여기에 기계플라자 - [G050020] 산업용PDA/터미널
제품코드G050019판매 회사명빅아이즈정보시스템연락처02-2207-9702홈페이지-제품홍보관- ※ 출처 : 여기에 기계플라자 - [G050019] 바코드스캐너